完美世界手游神谕任务大全|完美世界手游官网更新
您現在的位置:首頁 > 產品中心 >

蒸發濺射一體機


        ZXZJ-100蒸發濺射一體機是昭信半導體為科研院所定制的一款真空鍍膜設備,兼容蒸發、濺射工藝,最多可以安裝3個磁控濺射靶或者4個蒸發源或者特定數量的磁控濺射靶和蒸發源組合。通過更換腔體上下法蘭,最多可以實現3個磁控濺射靶同時鍍膜或者4個蒸發源同時鍍膜。設備可以選配保護手套箱,提高設備運行環境,更好保證設備的性能和重復性。設備采用PLC控制+觸摸屏智能控制系統,沒有傳統電氣柜,設計緊湊,布局合理,用戶界面優良。采用標準手套箱進行自由拼裝,手套箱整體大小1.2×1.2×2米(長×寬×高),每個手套箱配有兩個操作手套,三個手套箱共有一套水氧探頭,經濟實惠。

主要技術指標:

項目

配置

設備外形尺寸

腔體手套箱:1.2×1.2×2米(長×寬×高)+2個輔助手套箱1.2×1.2×2米(長×寬×高)

腔體尺寸

Φ280mm×350mm

基片大小

4英寸(可放12片18×18mm基片)

極限真空

5×10-5Pa

真空抽速(大氣到工作真空)

35min

真空測量范圍:

全量程復合真空計,測量范圍:105Pa~10-5Pa

漏率

1.0×10-8mbar·l/s

鍍膜靶材

碘化鉛、砷化鉛、Cr、無機材料等

靶源

1個直流磁控靶(可根據要求改成射頻磁控靶)

3個蒸發源(蒸發溫度小于1000℃)

兩個蒸發源可以進行反應鍍

同時最多只能安裝3個靶

電源

1臺磁控濺射直流電源

2臺蒸發電源,其中一臺可切換控制兩個蒸發源

 氣體

1×MFC:Ar,1×MFC:O2;可根據要求增加氣體管路

控制方式:

PLC+觸摸屏智能控制系統

冷卻循環系統:

水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃

樣品架系統

基片可加熱(小于300℃)

靶基距/蒸基距可調60~230mm

可旋轉(0~20轉/分鐘)

附件

標配膜厚儀

標配兩個手套箱(工藝手套箱+輔助手套箱)

 

設備特點:

1. 腔體大小為Φ280×350,材料采用不銹鋼,腔體內表面拋光。腔體整體在手套箱內,腔體采用前開門,取放樣片均在手套箱內,全方位保護腔體環境。腔體配有兩個觀察窗,便于觀察工藝過程。腔體預留CF35膜厚監控備用法蘭接口。

2. 配有兩個標準手套箱,兩個手套箱之間可以通過傳遞門傳遞物品。兩個手套箱相對獨立,工藝腔體手套箱和輔助手套箱互不影響。

3. 同時安裝3個坩堝蒸發源和1個直流濺射靶,每個源均配有定位選擇擋板。配有2個蒸發電源和1個濺射電源。蒸發源中只能有指定的2個源同時運行。

4. 樣品臺最大可容納4英寸基片(可放12片18×18mm基片),采用抽屜式壓緊機構,取放片方便。

5. 靶基距距離60~230mm可調,兼容蒸發鍍膜和濺射鍍膜。

6. 腔體預留兩路氣體,1路氬氣,用于磁控濺射;預留1路,用于反應鍍膜。

7. 樣品臺可加熱可旋轉,配有擋板。樣品臺旋轉速度0~20轉/分鐘可調,加熱方式采用鎧裝加熱器輻射加熱,溫度閉環控制。

8. 真空系統標配分子泵+機械泵,可選配進口和國產配置。真空測量采用電阻規+電離規復合真空計,測量范圍1×105Pa到1×10-5Pa。真空密封采用金屬密封和氟橡膠密封。

9. 設備采用PLC控制+觸摸屏智能控制系統,沒有傳統電氣柜,設計緊湊,布局合理,用戶界面優良。

10.  冷卻水系統標配一臺冷水機。

完美世界手游神谕任务大全