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氧化物MOCVD

                                   

產品介紹:

CVD設備制備氧化物薄膜時,由于反應物中含有氧原子,在高溫環境下容易與設備元器件發生反應,極大影響設備使用
壽命。昭信半導體的氧化物CVD設備采取加熱器密封隔絕反應源氧原子方式、結合嚴格的選材以及高效的冷卻系統設計,
有效防止設備元器件氧化,同時排除了設備進行高溫生長的障礙;設備腔體采用昭信半導體自創BDS氣體分配系統,氣
流均勻性高。該系列設備具有工作溫度高、溫度及氣流場均勻、體積小、升降溫度速率快等優點,是高校、科研院所、
生產企業進行II-VI族化合物材料生長的理想設備

 

型號:1*2",3*2",6*2"。可按用戶需求定制各類CVD、石墨烯、納米管生長爐等設備
應用領域:ZnO、ZnSe、CdSe、CdTe等II-VI族化合物材料的生長。

 

技術特性:
* 尾氣口設置在腔體軸心處,腔體內部氣流均勻對稱。
* 石墨托盤表面能實現1000℃以上的高溫。
* 加熱器密封在內部,與氧氣隔離,可有效防止被高溫氧化。
* 獨特的加熱器設計,盤面溫度均勻性小于±1℃。

 

質量保證:
1、設備提供質保一年保修服務(易損件除外),在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障,均予以免費維修。
保修期滿后,仍提供終身的、優質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障,我們將盡快做出處理方案,確保設備正常運行。
3、提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、由技術人員提供上門服務(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、可提供運輸服務,包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全(用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、
隨機工具等)。

 

昭信半導體承諾:所有設備出廠前均經過嚴格的質量檢測與功能調試,您可放心選用。

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